高纯金属材料，是按照金属材质中，所掺杂的杂质来计算。通常金属材料要达到百万分之几。通常碳元素不会计入金属杂质之中，测试的方法一般是利用减量法来进行衡量，这种方法主要还是用来测量金属材料的杂质成分。

高纯金属成分分析要求检测多至70种，少则十几种的金属元素检测。只有真正的检测了材料中的杂质元素和间隙元素才能真正的测试出金属材料的具体纯度。在高纯金属中要控制的主要杂质包括: 碱金属、碱土金属、过渡族金属、放射性金属(U , Th)。例如对于高纯钴, 一般要求碱金属、碱土金属、过渡族金属杂质单

元素含量小于1×10- 4% ,放射性杂质元素的单元素含量小于 1×10- 7 % , 间隙元素含量小于几十(10-4%)。

而高纯金属靶材则主要应用于电子元器件，溅射靶材是物理气体相沉积技术的一种，由靶胚，背板以及部分结构组成。溅射靶材需要在专用的机器内完成。要求环境为高压真空。具有良好的导电和导热性能。